



簡要(yao)描(miao)述(shu):便(bian)攜(xie)式(shi)原子(zi)力顯(xian)微(wei)鏡(jing)可以(yi)在(zai)不(bu)破(po)壞樣(yang)品內部(bu)結構的(de)情況下觀測樣(yang)品微(wei)區三(san)維(wei)形貌和(he)多(duo)相(xiang)結構(納(na)米(mi)級別);同(tong)時可對樣(yang)品表面(mian)物理化(hua)學特(te)性進行研究,數值(zhi)測定與分析。
產品型號:
廠商(shang)性質:生產廠家(jia)
更(geng)新(xin)時(shi)間(jian):2025-01-17
訪(fang) 問(wen) 量:5531產品目(mu)錄(lu)
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| 品牌 | 其(qi)他品牌 | 儀(yi)器種(zhong)類 | 原子(zi)力顯(xian)微(wei)鏡(jing) |
|---|---|---|---|
| 價格(ge)區間 | 面(mian)議(yi) | 產地類別(bie) | 進(jin)口(kou) |
| 應(ying)用領(ling)域 | 食(shi)品/農產品,化工(gong),生(sheng)物產業(ye),能源,制(zhi)藥/生物制(zhi)藥 |

便(bian)攜(xie)式(shi)原子(zi)力顯(xian)微(wei)鏡(jing)工作(zuo)模式(shi):
1.標(biao)準工作(zuo)模式(shi):
1.1輕(qing)敲模式(shi)(Vibration mode)
1.2接(jie)觸(chu)模式(shi)(Contact mode)
1.3相(xiang)位(wei)成像模式(shi)(Phase imaging)
1.4橫向力模式(shi)(Lateral force Microscopy LFM)
1.5力曲線(xian)測試(shi)(Force curve)可測楊(yang)氏模量(liang)
1.6納(na)米(mi)操控(kong) (Nanomanipulation)
1.7納(na)米(mi)刻(ke)蝕 (Nanolithography)
1.8力矩陣(zhen)模式(shi) (Force Mapping)
1.9摩(mo)擦(ca)力測試(shi) (Friction Mode)
2. 可選工作(zuo)模式(shi):
2.1 磁(ci)力顯(xian)微(wei)鏡(jing)模式(shi)(MFM mode)
2.2 靜(jing)電力顯(xian)微(wei)鏡(jing)模式(shi)(EFM mode)
2.3 導(dao)電顯(xian)微(wei)鏡(jing)模式(shi)(C-AFM mode)
2.4 液相模式(shi) (Liquid scan mode)
AFMWorkshop是(shi)專門從事(shi)設計(ji)和(he)制(zhi)造(zao)原子(zi)力顯(xian)微(wei)鏡(jing)的(de)專業(ye)化公(gong)司 。公(gong)司創(chuang)始人是(shi)有30年(nian)原子(zi)力顯(xian)微(wei)鏡(jing)經驗(yan)的(de) Paul West博(bo)士(shi),原子(zi)力顯(xian)微(wei)鏡(jing)教材《Atomic Forces Microscopes》的(de)作(zuo)者(zhe)。
便(bian)攜(xie)式(shi)原子(zi)力顯(xian)微(wei)技(ji)術(shu)參(can)數
掃(sao)描(miao)範圍(wei):100 μm,50 μm,15μm
Z方向範圍(wei):17 μm,7 μm
XY方向驅(qu)動(dong)分辨率(lv):0.01 nm
Z方向驅(qu)動(dong)分辨率(lv):0.003 nm
Z方向測量噪(zao)音水平:0.15 nm
樣(yang)品尺(chi)寸(cun):直徑25mm


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