葛(ge)蘭帕國(guo)產版(ban)HR-AFM原子(zi)力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)

葛(ge)蘭帕國(guo)產版(ban)HR-AFM原子(zi)力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)是壹款(kuan)專業(ye)級(ji)的(de)高分(fen)辨(bian)率原子(zi)力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)，Z軸噪(zao)音(yin)低(di)於(yu)35皮米(mi)。該(gai)設備可以在不(bu)破(po)壞(huai)樣(yang)品內部(bu)結(jie)構的(de)情況下(xia)觀測樣(yang)品微(wei)區三(san)維(wei)形貌(mao)和(he)多相結(jie)構；同(tong)時(shi)可對樣(yang)品表面物理化(hua)學(xue)特(te)性(xing)進(jin)行研究，數值(zhi)測定(ding)與(yu)分析(xi)。

葛(ge)蘭帕國(guo)產版(ban)HR-AFM原子(zi)力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)標(biao)準(zhun)工作模(mo)式：

輕(qing)敲模(mo)式(Vibration mode)，接(jie)觸(chu)模(mo)式 (Contact mode)，相位成(cheng)像(xiang)模(mo)式 (Phase imaging)，橫向(xiang)力(li)模(mo)式 (LFM)，力(li)曲線測試(shi)（Force Curve），納米(mi)操(cao)控(kong) （Nanomanipulation），納米(mi)刻(ke)蝕 （Nanolithography），力(li)矩(ju)陣(zhen)模(mo)式 （Force Mapping），摩擦(ca)力(li)測試(shi) （Friction Mode）

可選(xuan)工(gong)作模(mo)式：導(dao)電原子(zi)力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing) （C-AFM），磁力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)（MFM），靜電力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)（EFM）,掃(sao)描電勢顯(xian)微(wei)鏡(jing)（SKPM）。

設備具(ju)有(you)軟件自(zi)動(dong)進(jin)針功(gong)能。通(tong)過軟件控制(zhi)Z方(fang)向(xiang)馬(ma)達(da)實現(xian)探針自(zi)動(dong)進(jin)針。

X,Y,Z三(san)軸(zhou)分(fen)離(li)的(de)掃(sao)描器。

掃(sao)描範(fan)圍 100×100×17μm

Z軸分(fen)辨(bian)率0.035nm

樣(yang)品臺(tai)尺寸：25mm*25mm*18mm 

操(cao)作軟件：使(shi)用Laview環(huan)境(jing)語言(yan)控(kong)制(zhi)，免(mian)費(fei)提(ti)供操(cao)作軟件，並提(ti)供維(wei)護(hu)及(ji)升級(ji)。提(ti)供Gwyddion IMAGE ANALYSIS SOFTWARE 數(shu)據分(fen)析系統

頂(ding)視(shi)系統光(guang)學分辨(bian)率≤2微(wei)米(mi)，視(shi)場範(fan)圍從(cong)2mm*2mm到(dao)300um*300um可調(tiao)，放(fang)大倍(bei)率從(cong)45倍(bei)到(dao)400倍(bei)機(ji)械(xie)可調(tiao)。

側(ce)視(shi)系統，提(ti)供可視化(hua)下(xia)針，可以通過電腦精(jing)確觀察(cha)控(kong)制(zhi)下(xia)針過程(cheng)，防止(zhi)撞(zhuang)針。