葛蘭帕(pa) AFMWorkshopTT2-AFM原子(zi)力顯(xian)微鏡(jing)

TT2-AFM原(yuan)子(zi)力顯(xian)微鏡(jing)

1.標(biao)準工作(zuo)模式：

1.1輕(qing)敲模式(Vibration mode)

1.2接(jie)觸模式(Contact mode)

1.3相(xiang)位成像模式(Phase imaging)

1.4橫向(xiang)力(li)模式(Lateral force Microscopy LFM)

1.5力(li)曲(qu)線測(ce)試(shi)（Force curve）可測楊氏(shi)模量(liang)

1.6納米操(cao)控 （Nanomanipulation）

1.7納米刻蝕 （Nanolithography）

1.8力(li)矩(ju)陣模式 （Force Mapping）

1.9摩(mo)擦力測(ce)試(shi) （Friction Mode）

2. 可選工作(zuo)模式：

2.1 磁(ci)力顯(xian)微鏡(jing)模式（MFM mode）

2.2 靜電力顯(xian)微鏡(jing)模式（EFM mode）

2.3 導(dao)電顯(xian)微鏡(jing)模式（C-AFM mode）

2.4 液(ye)相(xiang)模式 （Liquid scan mode）

AFMWorkshop是(shi)專門從(cong)事(shi)設(she)計(ji)和制造原(yuan)子(zi)力顯(xian)微鏡(jing)的(de)專業(ye)化(hua)公(gong)司 。公(gong)司創(chuang)始人是(shi)有30年(nian)原子(zi)力顯(xian)微鏡(jing)經(jing)驗的 Paul West博(bo)士，原(yuan)子(zi)力顯(xian)微鏡(jing)教(jiao)材《Atomic Forces Microscopes》的(de)作(zuo)者。

掃描範(fan)圍(wei)：100 μm，50 μm，15μmZ方(fang)向(xiang)範(fan)圍(wei)：17 μm，7 μmXY方(fang)向(xiang)驅(qu)動(dong)分辨(bian)率(lv)：0.01 nmZ方(fang)向(xiang)驅(qu)動(dong)分辨(bian)率(lv)：0.003 nmZ方(fang)向(xiang)測(ce)量(liang)噪(zao)音水(shui)平(ping)：0.15 nm樣品(pin)尺寸(cun)：直徑25mm