針(zhen)式(shi)掃描(miao)原子力顯(xian)微鏡

針(zhen)式(shi)掃描(miao)原子力顯(xian)微鏡主(zhu)要(yao)優(you)勢：

1、全(quan)新(xin)設(she)計(ji)的(de)KMD運動學(xue)結構(gou)，降(jiang)低(di)了噪(zao)音(yin)水(shui)平(ping)，輕松(song)實現(xian)原子級分辨率。

2、提供可視化下針系(xi)統(tong)，操(cao)作簡單，對新(xin)手(shou)友好(hao)。

3、提高了掃(sao)描(miao)速(su)度，10秒(miao)出(chu)圖。

針(zhen)式(shi)掃描(miao)原子力顯(xian)微鏡工(gong)作(zuo)模(mo)式(shi)

1.標(biao)準(zhun)工(gong)作(zuo)模(mo)式(shi)：

1.1 輕(qing)敲(qiao)模(mo)式(shi)(Vibration mode)

1.2 接(jie)觸模(mo)式(shi) (Contact mode)

1.3 相(xiang)位成像模(mo)式(shi) (Phase imaging)

1.4 橫(heng)向(xiang)力模(mo)式(shi) (Lateral force Microscopy LFM)

1.5 力曲線(xian)測(ce)試（Force curve）可測(ce)楊(yang)氏模(mo)量(liang)

1.6 納米操(cao)控(kong) （Nanomanipulation）

1.7 納米刻蝕(shi) （Nanolithography）

1.8 力矩(ju)陣(zhen)模(mo)式(shi) （Force Mapping）

1.9 摩擦力測(ce)試 （Friction Mode）

2. 可選(xuan)工(gong)作模(mo)式(shi)：

2.1 磁(ci)力顯(xian)微鏡模(mo)式(shi)（MFM mode）

2.2 靜(jing)電(dian)力顯(xian)微鏡模(mo)式(shi)（EFM mode）

2.3 導(dao)電(dian)顯(xian)微鏡模(mo)式(shi)（C-AFM mode）

2.4 液(ye)相(xiang)模(mo)式(shi) （Liquid scan mode）

AFMWorkshop是(shi)專(zhuan)門(men)從事(shi)設計(ji)和制造(zao)原子力顯(xian)微鏡的(de)專(zhuan)業(ye)化公(gong)司(si) 。公(gong)司(si)創始(shi)人(ren)是有(you)30年原子力顯(xian)微鏡經(jing)驗(yan)的(de) Paul West博(bo)士(shi)，原子力顯(xian)微鏡教(jiao)材《Atomic Forces Microscopes》的(de)作(zuo)者(zhe)。

掃(sao)描(miao)範圍(wei)：100 μm，50 μm，15μm

方(fang)向(xiang)範圍(wei)：17 μm，7 μmXY

方(fang)向(xiang)驅(qu)動分辨率：0.01 nm

方(fang)向(xiang)驅(qu)動分辨率：0.003 nm

方(fang)向(xiang)測(ce)量(liang)噪(zao)音(yin)水(shui)平(ping)：0.03 nm

樣品(pin)尺(chi)寸(cun)：直(zhi)徑(jing)25