高分(fen)辨率原子力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)

HR-AFM是(shi)壹款(kuan)專(zhuan)業(ye)級的高分(fen)辨率原子力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)，Z軸噪(zao)音(yin)低(di)於(yu)35皮米。該(gai)設(she)備可以在不(bu)破壞(huai)樣(yang)品內(nei)部(bu)結構的情(qing)況(kuang)下觀測樣(yang)品微(wei)區三維形(xing)貌和多(duo)相結(jie)構；同時(shi)可對樣(yang)品表(biao)面(mian)物理化學(xue)特性(xing)進(jin)行研究，數(shu)值(zhi)測定(ding)與分(fen)析。

國(guo)內(nei)生產(chan)的HR-AFM原子力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)

標(biao)準工(gong)作模(mo)式(shi)：輕(qing)敲(qiao)模式(shi)(Vibration mode)，接(jie)觸(chu)模式(shi) (Contact mode)，相位成像模式 (Phase imaging)，橫(heng)向力(li)模(mo)式(shi) (LFM)，力(li)曲(qu)線測試(shi)（Force Curve），納(na)米(mi)操控 （Nanomanipulation），納(na)米(mi)刻蝕(shi) （Nanolithography），力(li)矩(ju)陣模(mo)式(shi) （Force Mapping），摩(mo)擦力(li)測(ce)試(shi) （Friction Mode）

可選工(gong)作模(mo)式(shi)：導(dao)電(dian)原(yuan)子力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing) （C-AFM），磁力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)（MFM），靜電(dian)力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)（EFM）,掃描電(dian)勢(shi)顯(xian)微(wei)鏡（SKPM）。

高(gao)分(fen)辨率原子力(li)顯(xian)微(wei)鏡(jing)具有軟件自動進(jin)針功(gong)能(neng)。通(tong)過軟件控制(zhi)Z方(fang)向馬(ma)達實(shi)現探(tan)針自動進(jin)針

X,Y,Z三軸分(fen)離的掃描(miao)器。

掃(sao)描範(fan)圍 100×100×17μm

Z軸分(fen)辨率0.035nm

樣(yang)品臺(tai)尺(chi)寸(cun)：25mm*25mm*18mm 

操(cao)作軟件：使(shi)用Laview環(huan)境(jing)語(yu)言(yan)控制(zhi)，免(mian)費提供(gong)操(cao)作軟件，並(bing)提供(gong)維(wei)護(hu)及升級。

提供(gong)Gwyddion IMAGE ANALYSIS SOFTWARE 數(shu)據分(fen)析系(xi)統(tong)

頂(ding)視(shi)系(xi)統(tong)光學(xue)分(fen)辨率≤2微米

視(shi)場範(fan)圍從(cong)2mm*2mm到(dao)300um*300um可調，放(fang)大(da)倍(bei)率從(cong)45倍(bei)到400倍(bei)機(ji)械可調

側視系統(tong)，提供(gong)可視化下針，可以通過電(dian)腦精確觀察控制(zhi)下針過程，防止撞針