以(yi)下(xia)是(shi)針對AFM拉曼(man)聯用系(xi)統的專業養護(hu)指(zhi)南(nan),涵(han)蓋核心組(zu)件維護、環境(jing)控(kong)制(zhi)及(ji)長期穩定性(xing)保障措(cuo)施:
壹(yi)、核心部(bu)件精(jing)細(xi)化(hua)維護
掃描(miao)器(qi)保養
防震動(dong)保護:由(you)於(yu)XY方向驅(qu)動(dong)分辨(bian)率達0.01 nm、Z方(fang)向(xiang)達0.003 nm,需(xu)配備主(zhu)動(dong)減(jian)震臺隔(ge)離低頻(pin)振動(dong)。
壓(ya)電(dian)陶(tao)瓷養護(hu):長期不(bu)用(yong)時每月(yue)通電(dian)壹(yi)次防止(zhi)壓(ya)電(dian)材(cai)料鈍化;避免超(chao)過(guo)量(liang)程(cheng)的力沖(chong)擊。
光學系(xi)統管理
激(ji)光路徑(jing)清潔(jie):每季(ji)度(du)用無塵(chen)棉簽(qian)蘸高純(chun)度(du)乙醇(chun)擦拭(shi)分光鏡(jing)、反(fan)射(she)鏡(jing),消除灰(hui)塵(chen)導(dao)致(zhi)的光斑畸(ji)變。
物鏡狀態(tai)監(jian)測:若(ruo)發現圖像局部模糊(hu),檢(jian)查(zha)鏡(jing)頭(tou)表(biao)面是(shi)否有(you)冷(leng)凝(ning)水(shui)汽或(huo)汙染物附(fu)著。
二、環境(jing)控(kong)制(zhi)體系(xi)構建(jian)
溫(wen)濕(shi)度閉(bi)環調(tiao)控
實(shi)驗(yan)室(shi)溫度(du)波動(dong)須控制在(zai)±0.5℃以(yi)內(nei),推(tui)薦(jian)配置雙(shuang)壓(ya)縮(suo)機(ji)組(zu)空(kong)調(tiao)系(xi)統。相對濕(shi)度維持(chi)在(zai)45%~60%RH,過高易引(yin)發掃(sao)描(miao)頭結(jie)露(lu)。
電(dian)磁(ci)屏(ping)蔽強化
采(cai)用雙(shuang)層法(fa)拉(la)第(di)籠結(jie)構接(jie)地,隔絕外部射(she)頻(pin)幹擾。電(dian)源線纜加(jia)裝π型(xing)LC濾(lv)波器(qi),降(jiang)低噪(zao)聲耦(ou)合(he)風險。
潔(jie)凈度分級管控
設(she)立(li)緩沖(chong)間(jian)並維持(chi)萬級潔(jie)凈度,操(cao)作(zuo)人員(yuan)穿(chuan)戴防靜(jing)電(dian)服(fu)及(ji)手套(tao)作(zuo)業。每周(zhou)使(shi)用粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)檢測箱體內≥0.5μm懸(xuan)浮(fu)顆粒(li)濃(nong)度(du)。
三(san)、標準(zhun)化操(cao)作(zuo)規程(cheng)(SOP)執行(xing)要(yao)點(dian)
開機(ji)序(xu)列(lie)規範(fan)
遵循(xun)“穩壓電(dian)源→控制器(qi)→電(dian)腦主機(ji)”順序(xu)啟動(dong),預(yu)熱時長不(bu)少(shao)於(yu)30分鐘使熱漂移趨於(yu)穩定。
探(tan)針(zhen)全(quan)生(sheng)命周(zhou)期管理
根據(ju)實驗(yan)需(xu)求選用適配針尖(jian)曲(qu)率半徑的(de)標準(zhun)探(tan)針(zhen);新(xin)針(zhen)安(an)裝後執行(xing)共(gong)振頻率校(xiao)準(zhun)程(cheng)序(xu);廢棄針(zhen)體存入(ru)專用(yong)回(hui)收容(rong)器(qi)避免交(jiao)叉(cha)汙(wu)染。
通過上述(shu)系(xi)統性(xing)維(wei)護(hu)策略(lve)的實(shi)施,可顯(xian)著(zhu)提升(sheng)AFM拉曼(man)聯用系(xi)統的運(yun)行(xing)可(ke)靠(kao)性(xing)及(ji)數(shu)據(ju)采(cai)集重復性(xing)。建(jian)議(yi)建(jian)立(li)完(wan)整的設(she)備(bei)日誌(zhi)制(zhi)度(du),持續追蹤(zong)各項性(xing)能指(zhi)標的(de)變化趨勢,實現預防性(xing)維(wei)護(hu)目標。